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[57] 申請專利範圍： 1.一種新型工業用處理爐，主要包括有一處理箱、放電機、絕緣撐台及固定基座；其中，處 理箱為一絕緣體構成之箱體，其中形成處理室，處理室之相對面，設有一放電極板與受電極 板，放電極板上設有一礦物板，處理室內之上、下兩側，復分別有一礦物板，處理室中並有 一用以支持加工元件之礦物台板，前面所述之礦物板係為可發射出4∼14微米波長之遠紅外 線之礦石所形成；放電機引出導線分別與放電極板、受電極板連接，處理箱下方設有絕緣撐 台，絕緣撐台底端設有固定基座，固定基內並放置有活性碳；藉此，將加工元件放入處理箱 內，經熱處理爐進行熱處理同時，復由放電機經放電極板將電波能量導入，以使加工元件之 金屬分子得重新排列，並記憶放電極板上之礦物板礦石之波長與波形，俾提昇加工元件之特 性者。 圖式簡單說明： 第一圖係本創作之平面組合圖。 第二圖係本創作之立體組合圖。 第三圖係本創作之處理爐之局部剖面圖。 |
